光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類(lèi)似于底片之于相片，光刻通過(guò)光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過(guò)掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱(chēng)的曝光，這個(gè)時(shí)候的掩膜也可稱(chēng)為光罩。
鉻版主要應(yīng)用于：
TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業(yè)；
HDI、FPC等印制線路板行業(yè)；
IC Bumping、IC基板、導(dǎo)線架等IC相關(guān)行業(yè)；
MENS、SENSOR和ENODER等精細(xì)電子元器件行業(yè)。
